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J-GLOBAL ID：200903088200811666
フオトレジスト組成物
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991170199
Publication number (International publication number)：1993019462
Application date： Jul. 10, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：
【要約】【構成】 ?@ベース樹脂、?A感放射線化合物として重量平均分子量300〜4000のノボラック樹脂類の水酸基の少なくとも一部がエステル化されたキノンジアジドスルホン酸エステル化物及び?B溶媒として3-オキシプロピオン酸低級アルキルエステル及び/又は3-アルコキシプロピオン酸低級アルキルエステルを含有するフォトレジスト組成物。【効果】 本発明のフォトレジスト組成物は、保存安定性、塗布均一性が良好で高解像性のフォトレジスト組成物である。
Claim (excerpt)：
ベース樹脂、感放射線化合物及び溶媒を含有するフォトレジスト組成物において、感放射線化合物として重量平均分子量300〜4000のノボラック樹脂類の水酸基の少なくとも一部がエステル化されたキノンジアジドスルホン酸エステル化物を用い、しかも溶媒として、3-オキシプロピオン酸低級アルキルエステル及び/又は3-アルコキシプロピオン酸低級アルキルエステルを用いることを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/022
, G03F 7/023 501
, H01L 21/027
Cited by examiner (7)
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