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J-GLOBAL ID:200903088229500368

CVD装置用トラップ洗浄装置およびその使用方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993253945
Publication number (International publication number):1995111260
Application date: Oct. 12, 1993
Publication date: Apr. 25, 1995
Summary:
【要約】【目的】 トラップを分解せずに洗浄可能な構造を採り入れることにより、CVD装置の休止時間の短縮と成膜品質の安定化を図る。【構成】 回収ユニット2内を洗浄するには、ベローズバルブ6,7によって排気導入管3,排気排出管4を閉鎖してから、洗浄液供給管8のバルブ10を開放し、洗浄液排出管9のバルブ11を開放する。これによって、ベローズバルブ6,7によって仕切られた閉鎖空間内を洗浄液が流れ、堆積した塩化アンモニウムが溶解して、洗浄液とともに洗浄液排出管9より除去される。洗浄後、閉鎖空間内を乾燥させたら、この閉鎖空間内を減圧してCVD装置による成膜を再開することができる。
Claim (excerpt):
CVD装置の排気管路に設けられたトラップの上流側と下流側に配され、該排気管路を閉鎖/開放する一対の仕切り弁と、前記一対の仕切り弁の閉鎖時に形成される閉鎖空間内に前記トラップを洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、使用済みの前記洗浄液を排出するための洗浄液排出手段とを備えたCVD装置用トラップ洗浄装置。
IPC (2):
H01L 21/31 ,  H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平3-097868
  • 特開平3-156916

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