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J-GLOBAL ID：200903088232451912

露光装置

Inventor： 上野 幸宏
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 西田 新
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993278217
Publication number (International publication number)：1995130634
Application date： Nov. 08, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 露光対象基板の線形/非線形の歪に応じた補正が可能な露光装置を提供する。【構成】 光源からの光を露光対象物に導いて照射するとともに、その照射位置を移動する走査部と、この走査部の駆動制御を行う制御部を備えている。そして、その制御部を、入力された露光用データを記憶し、その露光用データを、入力測定データを用いて補正して、この補正後のデータに基づいて走査部の光走査を制御する構成として、基板に非線形な歪がある場合でも、これを補正できるようにしている。

Claim (excerpt)：

基板上に積層した感光性材料の露光工程等において使用される装置であって、光源からの光を露光対象物に導いて照射するとともに、その照射位置を移動する走査部と、この走査部の駆動制御を行う制御部を備え、その制御部は、入力された露光用データを記憶する記憶手段と、入力された測定データを用いて上記露光用データを補正する演算処理手段を有し、この補正後のデータに基づいて上記走査部の光走査を制御するように構成されていることを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H05K 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-072609
  
• パターン描画方法及び装置とその試料固定治具
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-229755   Applicant：東芝機械株式会社