Pat

J-GLOBAL ID：200903088273823212

ケイ酸塩蛍光体の製造方法

Inventor： 武田 隆史 ,  宮崎 進
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003154747
Publication number (International publication number)：2004352936
Application date： May. 30, 2003
Publication date： Dec. 16, 2004
Summary：

【課題】輝度が高い真空紫外線励起発光素子用ケイ酸塩蛍光体の製造方法を提供する。【解決手段】金属化合物の混合物であって還元性雰囲気中における焼成によりケイ酸塩蛍光体を構成しうる混合物を還元性雰囲気中において焼成を行った後に、酸化性雰囲気中において400°C以上700°C以下の温度範囲で熱処理することを特徴とする真空紫外線励起発光素子用ケイ酸塩蛍光体の製造方法。金属化合物の混合物であって還元性雰囲気中における焼成によりケイ酸塩蛍光体を構成しうる混合物にカーボンを含有させ、還元性雰囲気中において焼成することを特徴とする真空紫外線励起発光素子用ケイ酸塩蛍光体の製造方法。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

金属化合物の混合物であって還元性雰囲気中における焼成によりケイ酸塩蛍光体を構成しうる混合物を還元性雰囲気中において焼成を行った後に、酸化性雰囲気中において400°C以上700°C以下の温度範囲で熱処理することを特徴とする真空紫外線励起発光素子用ケイ酸塩蛍光体の製造方法。

IPC (2)：

C09K11/08 ,  C09K11/59

FI (2)：

C09K11/08 B ,  C09K11/59

F-Term (12)：

4H001CA02 ,  4H001CA04 ,  4H001CF02 ,  4H001XA08 ,  4H001XA12 ,  4H001XA14 ,  4H001XA20 ,  4H001XA30 ,  4H001XA38 ,  4H001XA56 ,  4H001YA25 ,  4H001YA63

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 真空紫外線励起蛍光体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-159324   Applicant：日亜化学工業株式会社
• 真空紫外線励起発光素子用の蛍光体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-259235   Applicant：住友化学工業株式会社
• プラズマディスプレイ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-039506   Applicant：松下電器産業株式会社
• 蓄光性蛍光体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-008630   Applicant：化成オプトニクス株式会社