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J-GLOBAL ID：200903088312917807

エピタキシャル成長観察装置

Inventor： 清水 三郎 ,  不破 耕 ,  柳田 博司 ,  山室 和弘 ,  重富 潤一
Applicant, Patent owner： 日本真空技術株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993173723
Publication number (International publication number)：1995006967
Application date： Jun. 20, 1993
Publication date： Jan. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】この発明の目的は、試料の加熱中でも反射高速電子回折装置の回折模様の観察を可能にするエピタキシャル成長観察装置を提供することである。【構成】この発明のエピタキシャル成長観察装置は、蛍光スクリーンと観察者との間に蛍光スクリーンの発光色のみを透過する光学フィルターを配設したことを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

所定の温度に保持された試料に蒸発物資を照射して、そこに薄膜を形成しているときに、電子線を試料の表面に鋭角的に照射し、試料の表面で反射、回折するときに発生する回折模様を蛍光スクリーンに投影させ、その投影された回折模様を真空槽外の観察者が観察するエピタキシャル成長観察装置において、上記蛍光スクリーンと観察者との間に蛍光スクリーンの発光色のみを透過する光学フィルターを配設したことを特徴とするエピタキシャル成長観察装置。

IPC (3)：

H01L 21/205 ,  C30B 23/02 ,  C30B 25/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-149353
  
• 特開平1-149353
  
• 特開平1-149353
  
• 特開平1-149353