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J-GLOBAL ID：200903088342949231

レジスト組成物

Inventor： 柏木 幹文 ,  楠 哲了 ,  三田尾 徳之
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2001001088
Publication number (International publication number)：WO2001061410
Application date： Feb. 15, 2001
Publication date： Aug. 23, 2001
Summary：

【要約】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)活性光線の照射、または活性光線の照射と引き続く熱処理によってアルカリ可溶性樹脂を架橋する成分、及び(C)活性光線を吸収する化合物を含有するレジスト組成物であって、(A)アルカリ可溶性樹脂が、ポリビニルフェノール30〜95重量%とノボラック樹脂5〜70重量%とを含有する樹脂組成物であることを特徴とするレジスト組成物。該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)活性光線の照射、または活性光線の照射と引き続く熱処理によってアルカリ可溶性樹脂を架橋する成分、及び(C)活性光線を吸収する化合物を含有するレジスト組成物であって、(A)アルカリ可溶性樹脂が、ポリビニルフェノール30〜95重量%とノボラック樹脂5〜70重量%とを含有する樹脂組成物であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (8)：

G03F 7/038 601 ,  C08G 8/12 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/26 513

FI (9)：

G03F 7/038 601 ,  C08G 8/12 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/40 501 ,  G03F 7/26 513 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 570