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J-GLOBAL ID:200903088357402158
水素の重い同位体の酸化物を水から分離する装置及び方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
石田 敬 (外4名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000537628
Publication number (International publication number):2003521362
Application date: Mar. 25, 1999
Publication date: Jul. 15, 2003
Summary:
【要約】汚染水の重い水素同位体含有物を処理する方法及び装置。これは、汚染水と、分子分離物質(28)とを接触させ、それによって水和水の一部を、汚染水からの重い水素同位体水分子で置換することによる。ここで、前記分子分離物質は、結合した水和水を有する複数の水和部位を有する支持媒体を含んでいる。汚染水の水素同位体水分子含有率を、この様にして減少させる。分子分離物質(28)は好ましくはポリマー、例えばポリスチレン/ジビニルベンゼン架橋ポリマーであって結合した水和水を有する水和部位を持つものである。好ましい水和部位は、スルホン化又はホスホン化されたポリマーを、塩、例えばアルミニウム、ナトリウム、マグネシウム、銅、亜鉛、コバルト、鉄、ニッケル、マンガン、カリウム、及びクロムの塩と、反応させて活性部位を作ることによって得る。分子分離物質(28)と接触させる前又は接触させている間、水素同位体水分子に対して軽水水分子を選択的に透過させることができる分離膜(12)に、汚染水を接触させて、この水から軽水分子を取り出し、それによって前記水素同位体分子の濃度を高めることができる。
Claim (excerpt):
A.水素同位体水分子を含有する汚染水の供給源を提供すること、 B.分子分離物質を提供すること、ここでこの分子分離物質は、水和水と結合することができる複数の水和部位を有する支持媒体を含む、 C.前記汚染水を前記分子分離物質と接触させて、前記汚染水の水素同位体水分子の一部を、前記水和部位の一部に結合させ、それによって前記汚染水の水素同位体水分子含有率を低下させること、を含む、水素の重い同位体の酸化物によって汚染された水を処理して、この汚染水の水素同位体含有率を低下させる方法。
IPC (7):
B01D 59/30
, B01D 15/04
, B01D 59/12
, B01D 69/00
, B01J 49/00
, C02F 1/42
, G21F 9/06 591
FI (7):
B01D 59/30
, B01D 15/04
, B01D 59/12
, B01D 69/00
, B01J 49/00 Z
, C02F 1/42 E
, G21F 9/06 591
F-Term (30):
4D006GA28
, 4D006HA02
, 4D006HA24
, 4D006KA31
, 4D006KA53
, 4D006KB11
, 4D006KB12
, 4D006MB04
, 4D006PB20
, 4D006PB70
, 4D006PC33
, 4D006PC36
, 4D017AA01
, 4D017BA01
, 4D017BA11
, 4D017CA11
, 4D017CA17
, 4D017CB01
, 4D017DA01
, 4D017DB01
, 4D017EA01
, 4D025AA09
, 4D025AB39
, 4D025BA02
, 4D025BA07
, 4D025BA22
, 4D025BA24
, 4D025BB09
, 4D025DA02
, 4D025DA10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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核融合装置のプラズマ位置制御コイル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-044164
Applicant:三菱原子力工業株式会社, 三菱重工業株式会社
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水素同位体の分離方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-020912
Applicant:日本原子力研究所
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特開昭61-209031
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