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J-GLOBAL ID：200903088384104843

レジスト材及びパターン形成方法

Inventor： 青野 隆
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 吉田 勝広 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995212956
Publication number (International publication number)：1997043847
Application date： Jul. 31, 1995
Publication date： Feb. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】 白色光線下で作業が出来、熱処理工程にも耐えられ、更に赤外レーザ光で直接デジタル画像を形成することが可能なレジスト材及びパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 希アルカリ性水溶液からなる現像液に対して難溶性であって、その被膜に赤外線照射等の手段により選択的に加熱した部分が、該現像液に可溶性となることを特徴とするレジスト材、レジスト材を使用するパターン形成方法、及び該レジスト材を用いて形成された印刷版。

Claim (excerpt)：

希アルカリ性水溶液からなる現像液に対して難溶性となる被膜をレジスト材として媒体上に形成し、該被膜を選択的に加熱することにより、加熱した部分が上記現像液に可溶性となることを特徴とするレジスト材。

IPC (3)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/26 521

FI (3)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/26 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 平板印刷版
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-102377   Applicant：イーストマンコダックカンパニー
• 特公昭46-027919
  
• 放射線感受性組成物およびそれを含む平板印刷版
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-054630   Applicant：イーストマンコダックカンパニー
• 特公昭46-027919