Pat
J-GLOBAL ID：200903088386657467
光の均質化装置及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
澤木 誠一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000187099
Publication number (International publication number)：2001100621
Application date： Feb. 25, 1994
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：
【要約】【課題】 従来の拡散装置または均質化装置は光を種々の方向に撒き散らすが、特定の方向における強度は拡散装置の構成に依存するため透過効率が悪く、拡散光の方向または形を制御することができない。【解決手段】 本発明は光の解体成形装置においては、光が反射または伝達される方向を制御し、また所定の方向に伝達される光を均質化する微細な彫刻表面を設ける。上記表面組織は、感光性媒体に拡散された干渉光を露光する事によって形成する。感光性媒体は、例えば、重クロム酸化ゼラチン、ホトレジスト、ハロゲン化銀またはホトポリマーである。一度感光性媒体を記録し処理した場合には、硬化したとき媒体から分離できる多くの種類のエポキシまたはその等価物に表面組織を複写することができる。硬化せしめたエポキシ層をそのまま伝達体として、または反射のための反射材料を被覆して用いることができる。量産のためには、プラスチックまたは他の型押し可能な材料からメタルマスターを作るためエポキシ層を電鋳プロセスまたは同等プロセスにより処理し、彫刻表面組織を形成せしめる。
Claim (excerpt)：
A.拡散体を通して拡散された一つの光束の干渉光により感光性媒体を露光することによって感光性媒体内に任意の寸法, 形状のスペックルを形成せしめる工程と、B.上記感光性媒体を現像し、(1)光の方向を制御し、(2)指向された光を均質化する微細彫刻面組織を形成する工程と、及びC.上記感光性媒体に形成された上記微細彫刻面組織の複製を作る工程とより成り、上記複製から放散される光が、上記スペックルによって特徴づけられる、光の均質化装置の製造方法。
IPC (3)：
G03H 1/04
, G02B 5/02
, G02B 5/32
G03H 1/04
, G02B 5/02 C
, G02B 5/32
Cited by examiner (10)
Show all
Return to Previous Page
