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J-GLOBAL ID：200903088417042555
光学素子成形用型及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山下 穣平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995226493
Publication number (International publication number)：1997071426
Application date： Sep. 04, 1995
Publication date： Mar. 18, 1997
Summary：
【要約】【課題】 膜の劣化や成形品の表面粗さの劣化を生じない光学素子成形用型を製造することができる光学素子成形用型の製造方法、及び該方法により製造された光学素子成形用型を提供する。【解決手段】 リチウム、カリウム及びナトリウムよりなる元素または化合物を1種類以上含有する炭素源を用いた気相合成法により、型母材表面にリチウム、カリウム及びナトリウムよりなる1種類以上の元素を含有する炭素を主成分とする炭素膜を形成することによる光学素子成形用型の製造方法、及び該方法により製造された光学素子成形用型。
Claim (excerpt)：
リチウム、カリウム及びナトリウムよりなる元素または化合物を1種類以上含有する炭素源を用いた気相合成法により、型母材表面にリチウム、カリウム及びナトリウムよりなる1種類以上の元素を含有する炭素を主成分とする炭素膜を形成することを特徴とする光学素子成形用型の製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
C03B 11/00 N
, C04B 41/87 G
