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J-GLOBAL ID:200903088497976308

投影露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996131776
Publication number (International publication number):1997320927
Application date: May. 27, 1996
Publication date: Dec. 12, 1997
Summary:
【要約】【課題】 測距系やアライメント系の測定精度を向上させる。【解決手段】 投影光学系(PL)を支持する架台(110)及び隔壁(110C)で囲まれ、測距系(118)やアライメント系(120)が収納されるステージ空間(112)内への外部からの熱伝達経路中に断熱材(140)を介装し、あるいは架台(110)に温調装置(150)を設けることにより、ステージ空間(112)への伝熱を遮断し、ステージ空間(112)内の温度変化や温度むらの発生を防止する。
Claim (excerpt):
マスク上のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して移動可能な基板ステージと、該基板ステージの位置を測定するための干渉計とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系を支持する架台に設けられ、該架台と隔壁とで囲まれた前記基板ステージ及び前記干渉計のビーム光路を含む空間への外部からの熱の伝達経路を遮断する断熱材を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3):
H01L 21/30 515 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 Z

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