荷電粒子ビーム照射装置および照射方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：竹中岑生 , 大岩増雄 , 児玉俊英 , 村上啓吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003120839
Publication number (International publication number)：2004321502
Application date： Apr. 25, 2003
Publication date： Nov. 18, 2004
Summary：

【課題】比較的大きな照射野を荷電粒子ビームにより適切かつ容易に照射できる荷電粒子ビーム照射装置および照射方法を提供する。【解決手段】加速器から出射され複数のリーフを有する多葉コリメータで制御される荷電粒子ビームを治療室の治療台7上の患者などの被照射体に照射する照射装置において、前記被照射体の移動に応じ多葉コリメータ4の各リーフ8を照射野の形状に合わせて駆動制御し所定の開口領域を有する開口部を形成することにより、前記被照射体の所定面積を照射野の形状に合わせて照射する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

複数のリーフを有する多葉コリメータで制御される荷電粒子ビームを移動手段により移動される被照射体に照射する照射装置において、前記被照射体の移動に応じ前記多葉コリメータの各リーフを照射野の形状に合わせて駆動制御し所定の開口領域を有する開口部を形成することにより、前記被照射体の所定面積を照射野の形状に合わせて照射することを特徴とする荷電粒子照射装置。

IPC (1)：

A61N5/10

FI (1)：

A61N5/10 K

F-Term (6)：

4C082AA01 , 4C082AC05 , 4C082AE01 , 4C082AG12 , 4C082AG22 , 4C082AG24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

放射線照射位置確認方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-400776 Applicant：石川島播磨重工業株式会社
粒子線照射方法及び粒子線照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-026564 Applicant：株式会社東芝
放射線治療装置用のマルチリーフ・コリメータ及び補償器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-081966 Applicant：バリアン・アソシエイツ・インコーポレイテッド

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