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J-GLOBAL ID：200903088515415920

非晶質シリカ及びそれを用いたインクジェット記録媒体の製造方法

Inventor： 永原 大 ,  藤田 一之 ,  越智 隆 ,  小澤 裕司
Applicant, Patent owner： 日本製紙株式会社
Agent (2)： 河澄 和夫 ,  小田 淳子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003186182
Publication number (International publication number)：2005015315
Application date： Jun. 30, 2003
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：

【課題】特にインクジェット記録媒体のインク受理層用顔料として適した新規な非晶質シリカの製造方法及びそれを用いた記録適性の良いインクジェット記録媒体の製造方法を提供することにある。【解決手段】珪酸ソーダ水溶液に鉱酸を添加して中和反応により非晶質シリカを製造する方法において、シリカ濃度が4〜15重量%の珪酸ソーダに、15〜98重量%の硫酸を60°C以上で反応系の沸点以下の温度において連続的に添加しながら、中和当量の70〜100%に到達するまでの反応時間内に湿式粉砕処理を施した後、シリカ分散体のpHを8〜3の範囲に調整することにより非晶質シリカおよびその分散体を得る。またこの分散体を水洗、ろ過し再分散した分散体をそのまま用いて所要薬品を配合しインク受理層用塗料とし、情報に従ってインクジェット記録媒体を作成する。

Claim (excerpt)：

珪酸ソーダ水溶液に鉱酸を添加して中和反応により非晶質シリカを製造する方法において、珪酸ソーダに、15〜98重量%の硫酸を60°C以上で反応系の沸点以下の温度において連続的に添加しながら、中和当量の70〜100%に到達するまでの反応時間内に湿式粉砕処理を施した後、シリカ分散体のpHを8〜3の範囲に調整することを特徴とする非晶質シリカの製造方法。

IPC (4)：

C01B33/143 ,  B01J13/00 ,  B05D5/04 ,  B41M5/00

FI (4)：

C01B33/143 ,  B01J13/00 B ,  B05D5/04 ,  B41M5/00 B

F-Term (47)：

2H086BA15 ,  2H086BA33 ,  4D075BB16X ,  4D075CA35 ,  4D075DA04 ,  4D075DB18 ,  4D075DC27 ,  4D075EA06 ,  4D075EA10 ,  4D075EB07 ,  4D075EB12 ,  4D075EB14 ,  4D075EB19 ,  4D075EB22 ,  4D075EB38 ,  4D075EC03 ,  4G065AA01 ,  4G065AA02 ,  4G065AA09 ,  4G065BB01 ,  4G065BB02 ,  4G065CA11 ,  4G065DA06 ,  4G065DA09 ,  4G065EA01 ,  4G065EA06 ,  4G065FA02 ,  4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB13 ,  4G072EE01 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ15 ,  4G072KK01 ,  4G072LL06 ,  4G072MM01 ,  4G072MM26 ,  4G072RR06 ,  4G072RR12 ,  4G072SS01 ,  4G072SS06 ,  4G072SS10 ,  4G072SS11 ,  4G072UU30