イオンビーム照射装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山本惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000366916
Publication number (International publication number)：2002170516
Application date： Dec. 01, 2000
Publication date： Jun. 14, 2002
Summary：

【要約】【課題】高周波放電型のプラズマ発生装置を用いつつ、イオンビーム照射の際の基板表面の帯電を小さく抑制する。【解決手段】このイオンビーム照射装置は、高周波放電によってプラズマ12を生成してそれを基板4の上流側近傍に供給するプラズマ発生装置30を備えている。このプラズマ発生装置30は、イオンビーム2の走査方向Xに沿う方向を軸33として延びているプラズマ生成容器32と、その側面部に設けられていて軸33に沿って延びているプラズマ放出口34と、プラズマ生成容器32の外部に設けられていて軸33に沿う方向の磁界を発生させる磁石36とを備えている。磁力線38は当該磁界の様子を示す。しかもこの磁石36によって作られる磁界には、プラズマ放出口34から放出されるプラズマ12中のイオンを基板4側へ曲げる方向の磁界が含まれている。

Claim (excerpt)：

一定方向に走査されるイオンビームを基板に照射して処理を施すイオンビーム照射装置であって、高周波放電によってプラズマを生成して当該プラズマを前記基板の上流側近傍に供給して、イオンビーム照射に伴う基板表面の帯電を抑制するプラズマ発生装置を備えるイオンビーム照射装置において、前記プラズマ発生装置は、前記イオンビームの走査方向に沿う方向を軸として当該軸に沿って延びているプラズマ生成容器と、このプラズマ生成容器の軸に沿って延びているプラズマ放出口と、前記プラズマ生成容器の外部に設けられていて前記プラズマ生成容器の軸に沿う方向の磁界を発生させる1以上の磁石とを備えており、しかも当該1以上の磁石によって作られる磁界には、前記軸に沿う方向の磁界であって前記プラズマ放出口から放出されるプラズマ中のイオンを前記基板側へ曲げる方向の磁界が含まれていることを特徴とするイオンビーム照射装置。

IPC (6)：

H01J 37/317 , C23C 14/48 , H01J 27/16 , H01J 37/08 , H01L 21/265 , H01L 21/265 603

FI (6)：

H01J 37/317 Z , C23C 14/48 C , H01J 27/16 , H01J 37/08 , H01L 21/265 603 C , H01L 21/265 N

F-Term (7)：

4K029BD01 , 4K029CA10 , 4K029DE01 , 5C030DD01 , 5C030DE07 , 5C034CC01 , 5C034CC13

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