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J-GLOBAL ID：200903088556798400

ウエーハの自動洗浄装置

Inventor： 工藤 秀雄 ,  内山 勇雄 ,  田中島 隆司 ,  木村 嘉晴 ,  鈴木 盛江
Applicant, Patent owner： 信越半導体株式会社
Agent (1)： 山下 亮一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991214654
Publication number (International publication number)：1993036667
Application date： Jul. 31, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】[目的] キャリアレスを実現してウエーハの品質向上、省力化等を図ることができるウエーハの自動洗浄装置を提供すること。[構成] ウエーハを1枚ずつ受け入れるローダ部Aと、ウエーハを回転する一対の回転ブラシ間に挟持してこれの両面を同時に洗浄するブラシ洗浄装置Dと、洗浄液を収容する複数の洗浄槽E〜Kと、ウエーハを乾燥させる乾燥槽Lと、乾燥されたウエーハを収納するアンローダ部Mと、ウエーハを支持してこれを搬送する搬送ロボット(搬送手段)20を含んで自動洗浄装置を構成する。本発明に係る自動洗浄装置は毎葉式であって、ウエーハは1枚ずつ支持されて搬送され、且つ連続的に洗浄処理されるため、キャリアレスを実現することができ、キャリアでの搬送に伴うウエーハの汚染の問題が解消されるとともに、省力化を図ることができる。

Claim (excerpt)：

洗浄すべきウエーハを液中で1枚ずつ受け入れるローダ部と、受け入れられたウエーハを回転する一対の回転ブラシ間に挟持してこれの両面を同時に洗浄するブラシ洗浄槽と、洗浄液を収容する複数の洗浄槽と、洗浄が終了したウエーハを乾燥させる乾燥槽と、乾燥されたウエーハを収納するアンローダ部と、ウエーハを支持してこれを搬送する搬送手段を含んで構成されることを特徴とするウエーハの自動洗浄装置。