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J-GLOBAL ID：200903088578845798

1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンの製造方法

Inventor： 青山 博一 ,  山本 明典 ,  柴田 典明 ,  中田 龍夫
Applicant, Patent owner： ダイキン工業株式会社
Agent (1)： 逢坂 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994333866
Publication number (International publication number)：1996169850
Application date： Dec. 16, 1994
Publication date： Jul. 02, 1996
Summary：

【要約】【構成】 一般式(1):XCF2 CF2 CHClY(X及びYはフッ素原子又は塩素原子)のプロパン化合物の脱フッ酸、この脱フッ酸による一般式(2):XCF2 CF=CClYのプロペン化合物のフッ素化、このフッ素化物である1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロ-3-クロロプロパンの水素還元という多段階的なプロセスによって1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンを製造する方法。【効果】 安価な原料から、CFC化合物やHCFC化合物の代替品となり得る1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンを製造でき、また、高価なヘキサフルオロプロペンを原料としないために経済性に優れている。

Claim (excerpt)：

一般式(1):XCF2 CF2 CHClY(但し、この一般式において、X及びYはそれぞれフッ素原子又は塩素原子である。)で表されるプロパン化合物を脱フッ酸させ、一般式(2):XCF2 CF=CClY(但し、この一般式において、X及びYは前記したものと同じである。)で表されるプロペン化合物を得る第1工程と、このプロペン化合物を液相にてアンチモン触媒の存在下に無水フッ酸によってフッ素化し、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロ-3-クロロプロパンを得る第2工程と、この1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロ-3-クロロプロパンを貴金属触媒の存在下に水素還元し、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンを得る第3工程とを有する、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンの製造方法。

IPC (19)：

C07C 19/08 ,  B01J 23/18 ,  B01J 23/26 ,  B01J 23/38 ,  B01J 23/44 ,  B01J 23/70 ,  B01J 23/745 ,  B01J 23/86 ,  B01J 27/10 ,  B01J 27/12 ,  B01J 37/08 ,  C07C 17/087 ,  C07C 17/23 ,  C07C 17/25 ,  C07C 19/10 ,  C07C 21/18 ,  B01J 21/18 ,  B01J 32/00 ,  C07B 61/00 300