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J-GLOBAL ID：200903088582804753

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

Inventor： 篠永 浩彦 ,  佐藤 洋
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995135894
Publication number (International publication number)：1996305034
Application date： May. 09, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 気圧変動があってもレチクル面上のパターンを投影光学系によりウエハ面上に高い光学性能を有して投影することのできる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【構成】 第1物体のパターンを投影光学系により第2物体上に投影する装置において、前記投影光学系に関連する気圧の変化を検出する気圧検出手段と、前記第1物体のパターンの投影に用いる光の波長を変える波長変更手段と、前記気圧検出手段の出力を受け、前記気圧の変化による前記投影光学系の確保の相対屈折率の変化を補正するように前記第1物体のパターンの投影に用いる光の波長を変える波長変更手段とを有すること。

Claim (excerpt)：

第1物体のパターンを投影光学系により第2物体上に投影する装置において、前記投影光学系に関連する気圧の変化を検出する気圧検出手段と、前記第1物体のパターンの投影に用いる光の波長を変える波長変更手段と、前記気圧検出手段の出力を受け、前記気圧の変化による前記投影光学系の硝材の相対屈折率の変化を補正するように前記第1物体のパターンの投影に用いる光の波長を変える波長変更手段とを有する投影露光装置。

IPC (3)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 516 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平4-030411
  
• 特開平4-030412
  
• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-333872   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開平4-030411
  
• 特開平4-030412