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J-GLOBAL ID：200903088591154800

熱処理装置

Inventor： 大加瀬 亘
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン相模株式会社
Agent (1)： 大井 正彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991307197
Publication number (International publication number)：1993121341
Application date： Oct. 28, 1991
Publication date： May. 18, 1993
Summary：

【要約】【目的】 面状の被処理体の移動速度の制御系の構成を簡単としながら、面状の被処理体の全面を均一な温度で急速に熱処理することができる熱処理装置を提供することにある。【構成】 処理容器内に配置された面状の被処理体の処理面に対向するよう面状発熱源を配置してなる熱処理装置において、前記処理容器の出入口に近い外周面に補助ヒーターを設けたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

処理容器内に配置された面状の被処理体の処理面に対向するよう面状発熱源を配置してなる熱処理装置において、前記処理容器の出入口に近い外周面に補助ヒーターを設けたことを特徴とする熱処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/22 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-293622
  
• 特開昭63-232422