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J-GLOBAL ID：200903088611309414

パターン照合装置

Inventor：
中島 寛

About 中島 寛

, 
小林 孝次

About 小林 孝次


Applicant, Patent owner：
株式会社山武

About 株式会社山武


Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003393932
Publication number (International publication number)：2004192633
Application date： Nov. 25, 2003
Publication date： Jul. 08, 2004
Summary：
【課題】照合精度を高くする。【解決手段】第1照合部20Aにおいて、登録指紋と照合指紋とを相関方式(振幅抑制相関法)によって照合し、第2照合部20Bにおいて、登録指紋と照合指紋とを特徴点方式によって照合し、その照合結果を照合判定部20Dへ送る。照合判定部20Dは、何れか一方の方式による照合結果が「一致(OK)」であれば、登録指紋と照合指紋とは「一致(マッチング)」したと判定する。なお、第1照合部20Aによる照合を先に行い、その照合結果が「不一致(NG)」であった場合、第2照合部20Bによる照合を行うようにしてもよい。また、どちらの方式の照合を先に実行するか指定できるようにしてもよい。指紋など2次元に限らず、1次元、3次元などのパターンでも同様にして適用できる。【選択図】 図9
Claim (excerpt)：
登録パターンと照合パターンとの照合を行うパターン照合装置において、 前記登録パターンと前記照合パターンとの照合をこれらパターン間の相関値に基づいて実行する第1の照合手段と、 前記登録パターンと前記照合パターンとの照合を予め定義された特徴パラメータに基づいて実行する第2の照合手段と、 前記第1の照合手段による照合結果と前記第2の照合手段による照合結果のうち、少なくとも何れか一方の照合結果が前記登録パターンと前記照合パターンとの一致を示す照合結果であった場合、前記登録パターンと前記照合パターンとが一致したと判定する照合判定手段と を備えたことを特徴とするパターン照合装置。
IPC (2)：
G06T7/00 ,  G06T7/60
FI (3)：
G06T7/00 530 ,  G06T7/60 150B ,  G06T7/60 150P
F-Term (43)：
5B043AA09 ,  5B043BA02 ,  5B043CA02 ,  5B043DA05 ,  5B043EA06 ,  5B043EA07 ,  5B043EA08 ,  5B043EA10 ,  5B043EA12 ,  5B043EA13 ,  5B043EA15 ,  5B043FA07 ,  5B043GA02 ,  5B043GA04 ,  5B043GA11 ,  5B043GA18 ,  5L096AA06 ,  5L096BA15 ,  5L096CA02 ,  5L096CA14 ,  5L096DA02 ,  5L096EA03 ,  5L096EA15 ,  5L096EA16 ,  5L096EA28 ,  5L096EA43 ,  5L096FA10 ,  5L096FA13 ,  5L096FA23 ,  5L096FA32 ,  5L096FA34 ,  5L096FA59 ,  5L096FA66 ,  5L096FA67 ,  5L096FA69 ,  5L096GA19 ,  5L096JA03 ,  5L096JA14 ,  5L096JA16 ,  5L096KA03 ,  5L096KA15 ,  5L096LA05 ,  5L096MA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • パターン照合装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-107244   Applicant：山武ハネウエル株式会社
  • 指紋照合装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-217939   Applicant：山武ハネウエル株式会社
  • 特開平1-211184号公報

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