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J-GLOBAL ID：200903088618526003

多孔質分離膜及びその製造方法

Inventor： 積 洋二 ,  大嶋 仁英
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997057542
Publication number (International publication number)：1998249175
Application date： Mar. 12, 1997
Publication date： Sep. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】各種混合流体から特定成分を分離する際、透過率及び選択率の特性に優れ、薄膜化が容易で高い膜強度を有し、とりわけ大気中や各種燃焼排気ガスあるいは反応ガス中からO2 やCO2 を、特に高温のCO2 を優先的に分離する耐熱性に優れた気体用に好適なシリカ質の多孔質分離膜及びその製造方法を得る。【解決手段】アルコール溶媒中でシリコンアルコキシドと、Si原子に直接結合した1乃至2個のフェニル基を有するシリコンアルコキシドとの混合アルコキシドを作製し、該混合アルコキシドを加水分解して得た前駆体ゾルを無機多孔質体に塗布後、酸化性雰囲気中で乾燥し、300〜600°Cの温度で焼成してSiの側鎖にフェニル基が結合したシロキサン結合を有する多孔質分離膜とする。

Claim (excerpt)：

シリコンアルコキシドと、フェニル基を有するシリコンアルコキシドとの混合アルコキシドを加水分解して得た前駆体ゾルの焼成体から成り、該焼成体がシリコン(Si)の側鎖にフェニル基が結合したシロキサン結合を有することを特徴とする多孔質分離膜。

IPC (3)：

B01D 71/02 ,  B01D 71/10 ,  C04B 41/87

FI (3)：

B01D 71/02 ,  B01D 71/10 ,  C04B 41/87 A