Pat
J-GLOBAL ID:200903088625400090
ポリマー及びフォトレジスト組成物
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
千田 稔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001048803
Publication number (International publication number):2002161117
Application date: Feb. 23, 2001
Publication date: Jun. 04, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】スピロサイクリックオレフィンポリマー、スピロサイクリックオレフィンポリマーの調製方法、スピロサイクリックオレフィン樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】重合単位としての1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマー及び任意に1以上のエチレン性又はアセチレン性不飽和モノマーを含むポリマーであって、そのスピロサイクリックオレフィンモノマーがオレフィン性炭素を介してポリマー骨格に結合されているポリマーであり、更に、1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーとパラジウム(II)重合触媒、ニケッル(II)重合触媒及びフリーラジカル重合触媒から選択される1以上の触媒を接触させる工程を含む、1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを重合して、重合単位として1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを含むポリマーの形成法。
Claim (excerpt):
重合単位として1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマー及び任意に1以上のエチレン性又はアセチレン性不飽和モノマーを含むポリマーであって、該スピロサイクリックオレフィンモノマーがオレフィン性炭素を介してポリマー骨格に結合されているポリマー。
IPC (4):
C08F 32/08
, C08F 4/00
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (4):
C08F 32/08
, C08F 4/00
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
F-Term (32):
2H025AA00
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J015BA02
, 4J015BA04
, 4J015DA23
, 4J100AR09Q
, 4J100AR11Q
, 4J100AR11R
, 4J100AR15P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA11P
, 4J100BA20R
, 4J100BC03Q
, 4J100BC55P
, 4J100BC65P
, 4J100BC66P
, 4J100BC83P
, 4J100BD11P
, 4J100CA03
, 4J100CA05
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
Show all
Return to Previous Page