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J-GLOBAL ID:200903088650619790

レジスト用重合体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 宮崎 昭夫 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004139853
Publication number (International publication number):2005320444
Application date: May. 10, 2004
Publication date: Nov. 17, 2005
Summary:
【課題】 重合体を粉体で容易に安定して回収することができ、重合体中に残存する単量体および溶剤が少ないレジスト用重合体を製造できる方法を提供することを目的とする。【解決手段】 重合することにより目的とする重合体の構成単位となる単量体を溶剤中で溶液重合して、目的とする重合体を含む溶液を得、再沈殿溶媒と前記重合体を含む溶液とを、全溶媒のSP値が30〜35[MPa1/2]になるように混合して重合体を析出させてレジスト用重合体を製造する。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
重合することにより目的とする重合体の構成単位となる単量体を溶剤中で溶液重合して、目的とする重合体を含む溶液を得る重合工程と、 再沈殿溶媒と前記重合体を含む溶液とを、全溶媒のSP値が30〜35[MPa1/2]になるように混合して重合体を析出させる再沈殿工程と を有するレジスト用重合体の製造方法。
IPC (2):
C08F6/12 ,  G03F7/039
FI (2):
C08F6/12 ,  G03F7/039 601
F-Term (16):
2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB41 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC16 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (3)

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