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J-GLOBAL ID:200903088666883152
有機発光ダイオードの改善のためのポリチオフェン配合物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, 杉本 博司
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, ラインハルト・アインゼル
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007010570
Publication number (International publication number):2007191715
Application date: Jan. 19, 2007
Publication date: Aug. 02, 2007
Summary:
【課題】EL装置の正孔注入層の製造のために極めて適しており、かつこれらの正孔注入層が、特に小さい粒度を必要とすることなく、クロストークの発生を抑制しうる配合物を開発及び提供する。【解決手段】A)一般式(I-a)及び/又は(I-b)[式中、A、Y、R、xは明細書中に記載される意味を有する]で示される繰返単位を有する少なくとも1種のポリチオフェンと、B)SO3-M+基又はCOO-M+基を有する少なくとも1種のポリマーと、C)SO3-M+基又はCOO-M+基を有する少なくとも1種の部分的にフッ素化された又は過フッ素化されたポリマーとを含有する配合物を提供する。【選択図】なし
Claim (excerpt):
以下の
A)一般式(I-a)及び/又は(I-b)
IPC (6):
C08L 65/00
, H01L 51/50
, H01L 29/786
, C08L 25/18
, C08L 27/18
, C08K 5/05
FI (8):
C08L65/00
, H05B33/22 D
, H05B33/14 A
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 616V
, C08L25/18
, C08L27/18
, C08K5/05
F-Term (17):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC33
, 3K107CC45
, 3K107DD73
, 3K107DD79
, 3K107DD87
, 3K107EE02
, 3K107FF14
, 4J002BC12X
, 4J002BD15Y
, 4J002CE00W
, 4J002EC036
, 4J002FD206
, 4J002GQ02
, 5F110GG05
, 5F110HK01
Patent cited by the Patent: