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J-GLOBAL ID：200903088691071006

静電チャック及びプラズマ処理装置

Inventor： 小河原 米一
Applicant, Patent owner： 日電アネルバ株式会社
Agent (1)： 大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994110762
Publication number (International publication number)：1995321187
Application date： May. 25, 1994
Publication date： Dec. 08, 1995
Summary：

【要約】【目的】 被吸着物の吸着・脱離の応答特性、被吸着物とベース部との熱の授受が従来よりそれぞれ優れる静電チャックを提供する。【構成】 被吸着物47を置くための誘電体部分43bと、この誘電体部分43bを支持するためのベース部43aとを具える静電チャック43において、誘電体部分43bを炭化珪素で構成する。また、ベース部43aと誘電体部分43bとの間に両者間の熱伝導を向上させるための中間層を設けても良い。

Claim (excerpt)：

被吸着物を置くための誘電体部分と、該誘電体部分を支持するためのベース部とを具える静電チャックにおいて、誘電体部分を炭化珪素で構成してあることを特徴とする静電チャック。

IPC (4)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/3065 ,  H02N 13/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-270320
  
• 静電ウエーハチャック用プレート
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-264001   Applicant：日立化成工業株式会社
• 静電チヤツク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-294696   Applicant：富士電機株式会社