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J-GLOBAL ID：200903088752478368

ネガ型フォトレジスト組成物

Inventor： 植田 裕治 ,  竹山 尚幹 ,  植木 裕美 ,  楠本 武宏 ,  中野 由子
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992221374
Publication number (International publication number)：1994067431
Application date： Aug. 20, 1992
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 遠紫外線(特にKr Fエキシマーレーザー)リソグラフィに適し、且つ、諸性能(解像度、感度、残膜率、プロファイル及び耐熱性等)に優れ、しかも定在波効果の小さいネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 p-ヒドロキシスチレンとスチレンとの共重合により得られる樹脂、一般式(II)【化1】〔式中Zは-NRR’等を、R、R’、R1 〜R4 は-CH2 ORa 等を、Raは低級アルキル基を各々表わす。〕で示される架橋剤、及び一般式(III)【化2】〔式中Y3 〜Y5 はモノ-、ジ-又はトリ-ハロゲン置換アルキル基等を表わす。〕で示される酸発生剤を含有するネガ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

p-ヒドロキシスチレンとスチレンとの共重合により得られる樹脂、一般式(II)【化1】(式中、Zは-NRR’又は置換されていてもよいアリール基を表す。R、R’、R1 〜R4 は各々独立して水素原子、-CH2 OH又は-CH2 ORa を表す。Ra は低級アルキル基を表わす。)で示される架橋剤、及び一般式(III)【化2】〔式中、Y3 〜Y5 は、これらの中少なくとも1つはモノ-、ジ-もしくはトリ-ハロゲン置換アルキル基を表わすという条件付きで、各々置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アラルキルもしくはピペリジノ基、又は-N(Y6 )(Y7 )、-OY8 もしくは-SY9 を表わす。Y6 〜Y9 は各々独立して水素原子、又は置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基を表わす。〕で示される酸発生剤を含有してなるネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027