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J-GLOBAL ID:200903088756391682
ポリメチン化合物、その製造法及び用途
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
森岡 博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000184294
Publication number (International publication number):2001064255
Application date: Jun. 20, 2000
Publication date: Mar. 13, 2001
Summary:
【要約】【課題】750nm〜900nmに発光領域を持つ半導体レーザー光に対して高い感度を示し、光熱変換効率の高い近赤外線吸収剤、これを用いたダイレクト製版用印刷原版及びこれらに使用できる新規な化合物を提供する。【解決手段】下記一般式(I)のポリメチン化合物及び該化合物を含有することを特徴とする近赤外線吸収剤。【化1】(式中、R1は置換基を有してもよいアルコキシ基を示し、R2は置換基を有してもよいアルキル基を示し、R3、R4はそれぞれ低級アルキル基を示し、またR3とR4は互いに連結して環状構造を形成しても良く、Xは水素原子、ハロゲン原子または置換アミノ基を示し、Yは置換基を有してもよいアルコキシ基または置換基を有してもよいアルキル基を示し、Zは電荷中和イオンを表す。)
Claim (excerpt):
下記一般式(I)で表されるポリメチン化合物。【化1】(式中、R1は置換基を有してもよいアルコキシ基を示し、R2は置換基を有してもよいアルキル基を示し、R3、R4はそれぞれ低級アルキル基を示し、またR3とR4は互いに連結して環状構造を形成しても良く、Xは水素原子、ハロゲン原子または置換アミノ基を示し、Yは置換基を有してもよいアルコキシ基または置換基を有してもよいアルキル基を示し、Zは電荷中和イオンを表す。)
IPC (8):
C07D209/14
, C07D209/10
, C07D209/96
, C09B 23/00
, C09K 3/00 105
, G03C 1/20
, G03F 7/004 505
, G03G 5/05 104
FI (9):
C07D209/14
, C07D209/10
, C07D209/96
, C09B 23/00 L
, C09B 23/00 E
, C09K 3/00 105
, G03C 1/20
, G03F 7/004 505
, G03G 5/05 104 B
Patent cited by the Patent:
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