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J-GLOBAL ID：200903088773514887
修正用マスク及びハーフトーン位相シフトマスクの修正方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
柏谷 昭司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997080708
Publication number (International publication number)：1998274839
Application date： Mar. 31, 1997
Publication date： Oct. 13, 1998
Summary：
【要約】【課題】 修正用マスク及びハーフトーン位相シフトマスクの修正方法に関し、一回の修正作業によって複数箇所の欠陥を修正する。【解決手段】 透明基板1上に、被修正用のハーフトーン位相シフトマスク4のデバイス領域8が透光領域となるように、デバイス領域8に対応する領域以外の領域に遮光膜3を設けた修正用マスク1を用いて遮光膜残渣10を除去する。
Claim (excerpt)：
透明基板上に、被修正用のハーフトーン位相シフトマスクのデバイス領域が透光領域となるように、前記デバイス領域に対応する領域以外の領域に遮光膜を設けたことを特徴とする修正用マスク。
IPC (2)：
FI (6)：
G03F 1/08 G
, G03F 1/08 A
, G03F 1/08 T
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 502 W
, H01L 21/30 528
