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J-GLOBAL ID:200903088807476033
インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
有我 軍一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992295555
Publication number (International publication number):1994143566
Application date: Nov. 05, 1992
Publication date: May. 24, 1994
Summary:
【要約】【目的】本発明は、インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法に関し、インク流路をインク吐出口に向かって幅方向あるいはこれに加えて深さ方向にも絞り込むことにより、インクを吐出口からスムースに吐出することができるとともに、パージ時にインク流内に発生した気泡や外部からインク流内に侵入した気泡やごみも容易に排出することができ、インクの噴射性能を向上させることができるインクジェット記録ヘッドおよび、その溝を容易に形成することができるインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供することを目的としている。【構成】複数の微細な溝11aが形成された流路板11aと、流路板11に接合され、インクに吐出エネルギーを付与するPZTを有する基板と、を備え、流路板11の溝11aおよび基板によってインク流路12が画成されるインクジェット記録ヘッドにおいて、前記インク流路13がインク吐出口に向かって幅方向あるい幅方向に加えて深さ方向に絞り込まれている。
Claim (excerpt):
複数の微細な溝が形成された流路板と、流路板に接合され、インクに吐出エネルギーを付与する圧電素子を有する基板と、を備え、流路板の溝および基板によってインク流路が構成されるインクジェット記録ヘッドにおいて、前記インク流路がインク吐出口に向かって幅方向に絞り込まれていることを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
IPC (7):
B41J 2/045
, B41J 2/055
, B29C 33/38
, B29C 45/26
, B41J 2/16
, C23C 14/34
, C23F 4/00
FI (2):
B41J 3/04 103 A
, B41J 3/04 103 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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特開昭54-150127
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特開昭61-032761
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特開平4-022644
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特開平3-297653
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特開平4-119853
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特開昭62-111755
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特開平2-014150
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特開昭56-166076
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シリコンウェハーの加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-325999
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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