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J-GLOBAL ID:200903088832976571
微量金属分析用標準ガス、標準ガスの調製装置および標準ガスの調製方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
市川 恒彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995237777
Publication number (International publication number):1997061314
Application date: Aug. 23, 1995
Publication date: Mar. 07, 1997
Summary:
【要約】【課題】 クリーンルーム内の雰囲気などに含まれる金属化合物を直接法により分析するための標準ガスを提供する。【解決手段】 微量金属分析用標準ガスは、温度20°C以上で昇華圧を有する金属化合物の蒸気と、この金属化合物に対して不活性な気体とを含んでいる。
Claim (excerpt):
温度20°C以上で昇華圧を有する金属化合物の蒸気と、前記金属化合物に対して不活性な気体とを含む、微量金属分析用標準ガス。
IPC (2):
G01N 1/00 102
, G01N 33/20
FI (2):
G01N 1/00 102 D
, G01N 33/20 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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電子放出素子、電子源及びそれを用いた画像形成装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-345478
Applicant:キヤノン株式会社
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気化容器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-323057
Applicant:信越化学工業株式会社
-
有機金属錯体を用いる薄膜の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-119120
Applicant:同和鉱業株式会社, 日本化学産業株式会社
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FIBアシストデポジション装置のガス供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-118857
Applicant:日本電子株式会社
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有機金属化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-097295
Applicant:メルクパテントゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフトング
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特開平3-238747
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