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J-GLOBAL ID:200903088847394757
ハーフトーンブランクス
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
中山 清
, 保立 浩一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007037206
Publication number (International publication number):2008203374
Application date: Feb. 16, 2007
Publication date: Sep. 04, 2008
Summary:
【課題】 ハーフトーンマスクの製造が容易で多大な設備投資を必要としないハーフトーンブランクスを提供する。【解決手段】 透明基板1上に、半透過膜2、エッチングストッパー膜3、遮光膜4が順次形成されている。エッチングストッパー膜3は、遮光膜4をエッチングする際にエッチングが半透過膜2まで進行しないようにするものである。遮光膜4はクロム又はクロム化合物で形成されている。エッチングストッパー膜3は、アルミニウムを主成分とする膜であり、にシリコン又はチタンが少量添加されている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
透明基板上に、半透過膜、エッチングストッパー膜、遮光膜を順次形成した構造のハーフトーンブランクスであって、
遮光膜は、クロム又はクロム化合物で形成されており、
エッチングストッパー膜は、遮光膜をエッチングする際に当該エッチングが半透過膜まで進行しないようにするものであって、アルミニウムを主成分とする膜であることを特徴とするハーフトーンブランクス。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (3):
2H095BB01
, 2H095BB14
, 2H095BC05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (6)
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位相シフト露光マスク及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-213612
Applicant:ソニー株式会社
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位相シフトマスクとその製造方法そしてそれに用いるブランク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-073225
Applicant:凸版印刷株式会社
-
階調マスクの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-326003
Applicant:大日本印刷株式会社
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