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J-GLOBAL ID：200903088851273999
水素製造方法および装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 正年 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000020026
Publication number (International publication number)：2001213609
Application date： Jan. 28, 2000
Publication date： Aug. 07, 2001
Summary：
【要約】【課題】 水素ガスの生成を阻害する原因となるケイ酸イオンのゲル化を回避して効率よく水素を製造できる方法および装置の提供。また連続的に水素の定量供給ができる実用に適した水素の製造方法および装置の提供。【解決手段】 予め粉体ケイ素を水と混合してスラリー状態とし、このケイ素スラリー粉体とアルカリ液とを反応容器に供給して反応容器内で加温下に接触反応させることにより水素を発生させる。
Claim (excerpt)：
粉体ケイ素とアルカリ液とを反応容器に供給して反応容器内で加温下に接触反応させることにより水素を発生させる水素製造方法において、予め粉体ケイ素を水と混合してスラリー状態とし、このケイ素スラリーを反応容器に供給することを特徴とする水素製造方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
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特公昭49-004637
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特公昭49-020878
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特開昭59-045901
Cited by examiner (9)
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