ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000371650
Publication number (International publication number)：2001281849
Application date： Dec. 06, 2000
Publication date： Oct. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも1つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び(B)活性光線または放射線の照射により、少なくとも1つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L101/02 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L101/02 , H01L 21/30 502 R

F-Term (34)：

2H025AA02 , 2H025AB03 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J002AA03W , 4J002AA03X , 4J002AA05W , 4J002AA05X , 4J002BC12W , 4J002BC12X , 4J002BH01X , 4J002CC03X , 4J002EJ008 , 4J002ER029 , 4J002EU049 , 4J002EU119 , 4J002EU129 , 4J002EV078 , 4J002EV208 , 4J002EV218 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002FD310 , 4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

スルホニウム塩化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-369910 Applicant：和光純薬工業株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-229160 Applicant：ジェイエスアール株式会社
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-095681 Applicant：松下電子工業株式会社, クラリアントジャパン株式会社

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