Pat
J-GLOBAL ID:200903088886456379

電磁波反応性組成物およびフォトレジスト

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大井 正彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997115377
Publication number (International publication number):1998307395
Application date: May. 06, 1997
Publication date: Nov. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】 高い光感度を有する電磁波反応性組成物およびフォトレジストを提供すること。【解決手段】 本発明の電磁波反応性組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、電磁波の作用によって酸を発生する電磁波-酸発生物質と、酸の存在によって分解して酸を生成する、前記アルカリ可溶性樹脂と水素結合可能な部位を有する化合物よりなる酸-酸生成物質とを含有してなる。また、本発明のフォトレジストは、上記の電磁波反応性組成物を含有してなり、酸-酸生成物質の酸生成反応により、アルカリ可溶性樹脂のアルカリ水溶液に対する溶解性の程度が変化する。
Claim (excerpt):
アルカリ可溶性樹脂と、電磁波の作用によって酸を発生する電磁波-酸発生物質と、酸の存在によって分解して酸を生成する、前記アルカリ可溶性樹脂と水素結合可能な部位を有する化合物よりなる酸-酸生成物質とを含有してなることを特徴とする電磁波反応性組成物。
IPC (4):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027
FI (4):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page