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J-GLOBAL ID：200903088907728943

X線マスク構造体、及び該X線マスク構造体を用いたX線露光装置と該X線マスク構造体を用いて作製された半導体デバイス

Inventor： 宮地 剛司 ,  千葉 啓子 ,  千徳 孝一 ,  大沢 大
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996302876
Publication number (International publication number)：1998144594
Application date： Nov. 14, 1996
Publication date： May. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】 被写体に面するマスクパターン面にゴミの付着がなく、マスクとウエハの接触によるメンブレンの破壊を防ぐことができ、かつ、交換の可能な薄膜を備えたX線マスク構造体を提供する。【解決手段】 X線吸収体1と、これを支持する支持膜2と、この支持膜を保持する保持枠3とからなるX線マスク構造体において、被転写体に面する側に薄膜7がX線吸収体から間隔をおいて設けられており、この薄膜の面上に、薄膜と被転写体の間隔あるいは薄膜の変位を検出するための測定マーク10が形成されている。

Claim (excerpt)：

X線吸収体と、該X線吸収体を支持する支持膜と、該支持膜を保持する保持枠とからなるプロキシミティ露光用X線マスク構造体において、被転写体と向かい合う側の支持膜のマスク面にX線吸収体の厚さより厚いスペーサが形成され、薄膜が該スペーサに接して補強枠に固定されていることを特徴とするX線マスク構造体。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開昭63-072119
  
• 特開平4-240716
  
• 特開昭63-072119
  
• 特開平4-240716
  

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-072119
  
• 特開昭63-072119
  
• 特開平4-240716
  
• 特開平4-240716