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J-GLOBAL ID：200903088933078051

光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 前田 勝美 ,  岩佐 繁之 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 高橋 詔男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000347900
Publication number (International publication number)：2002146333
Application date： Nov. 15, 2000
Publication date： May. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】 波長220nm以下の紫外光に対して透明性に優れ、光反応効率(光酸発生効率)が高い光酸発生剤、および解像性、パターン側壁の平滑性に優れた化学増幅レジスト組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(I):【化1】で表されるスルホニウム塩化合物と、一般式(II):【化2】で表されるスルホニウム塩化合物を混合する。

Claim (excerpt)：

一般式(I):【化1】(式中、R1、R2は、それぞれ独立に、直鎖状、分枝状、単環式、または橋かけ環式のアルキル基、あるいは、飽和炭素骨格を有して互いにつながり環を形成した基、または互いにつながり環を形成したオキソアルキレン基を表し、R3、R4、R5、およびR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、またはアルコキシ基を表し、Xは-CH2-、-C2H4-、または-OCH2-を表し、Y-は対イオン表す)で表されるスルホニウム塩化合物から選ばれる少なくとも1種のスルホニウム塩化合物と、一般式(II):【化2】(式中、R7はアルキレン基または2-オキソアルキレン基を表し、R8はオキソ基を有する直鎖状、分枝状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式のアルキル基、または直鎖状、分枝状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式のアルキル基を表し、R7、R8の少なくとも一方は、オキソ基を有するものとし、Y-、は対イオン表す)で表されるスルホニウム塩化合物から選ばれる少なくとも1種のスルホニウム塩化合物を含むことを特徴とする光酸発生剤。

IPC (11)：

C09K 3/00 ,  C07C381/12 ,  C07D311/22 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (11)：

C09K 3/00 K ,  C07C381/12 ,  C07D311/22 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (22)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025FA17 ,  4C023JA05 ,  4C062EE44 ,  4H006AA03 ,  4H006AB40 ,  4H006AB81 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05