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J-GLOBAL ID：200903088981131134
薬液処理方法およびその処理装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
粟野 重孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993116680
Publication number (International publication number)：1994333899
Application date： May. 19, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：
【要約】【目的】 化学処理に使用する薬液を効率的に分離して回収できるようにする。【構成】 薬液処理室1を、開口部2を有する仕切板3により第一薬液処理室4と第二薬液処理室5に分割し、半導体基板9を保持するステージ8を回転可能ならびに上記各薬液処理室4、5に移動可能とする。
Claim (excerpt)：
薬液処理室を上下複数段に分割した端部の部屋から順次各段の部屋に被処理物を保持した回転可能なステージを移動し、その各部屋で薬液による被処理物の化学処理ならびに回転ステージの回転による被処理物に付着した薬液の除去を行なうことを特徴とする薬液処理方法。
IPC (4)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304 351
, H01L 21/306
, B08B 3/02
