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J-GLOBAL ID：200903088989031368

ネガ型化学増幅系レジスト組成物

Inventor： 小柳 敬夫 ,  北折 智之 ,  福永 誠規 ,  長澤 孝太郎
Applicant, Patent owner： 日本化薬株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993196777
Publication number (International publication number)：1995036187
Application date： Jul. 15, 1993
Publication date： Feb. 07, 1995
Summary：

【要約】【構成】(1)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(2)酸触媒により架橋反応を起こす架橋剤、(3)放射線によって酸触媒を発生する光酸発生剤、及び(3)アジド基を有する化合物を含有するネガ型化学増幅系レジスト組成物。【効果】本発明のネガ型化学増幅系レジスト組成物は感度、解像性が極めて高く、得られた樹脂パターンは形状も優れているため半導体集積回路等の製造に極めて有用である。

Claim (excerpt)：

(1)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(2)酸触媒により架橋反応を起こす架橋剤、(3)放射線によって酸触媒を発生する光酸発生剤、及び(4)アジド基を有する化合物を含有するネガ型化学増幅系レジスト組成物

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027