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J-GLOBAL ID：200903088997003209

エキシマレ-ザアニ-ル装置

Inventor： 浅井 市郎 ,  布施 マリオ ,  宮本 育昌
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 阪本 清孝 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992231575
Publication number (International publication number)：1994061172
Application date： Aug. 07, 1992
Publication date： Mar. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 簡易な構造でエネルギ-の異なるレ-ザ光を一度の照射作業で照射できるエキシマレ-ザアニ-ル装置を提供する。【構成】 ホモジナイザ2から出力されたレ-ザ光の一部はビ-ムスプリッタ-8によって分岐され、この分岐されたビ-ム光は反射鏡9によって被照射物3へ光路変更され、さらに、調節レンズ10によってビ-ムの拡がり等が調整された後にフィルタ11によって所望のエネルギ-密度の副ビ-ムE1となる。したがて、ビ-ムの移動方向に対してエネルギ-の異なる主ビ-ムE2と副ビ-ムE1とが平行して出力されることとなる。

Claim (excerpt)：

絶縁性基板上に設けられた半導体膜をエキシマレ-ザにてアニ-ルするエキシマレ-ザ装置において、少なくとも2つのエネルギ-密度の異なるレ-ザ光を発生するレ-ザ光発生手段と、前記レ-ザ光発生手段により発生されたエネルギ-密度の異なるレ-ザ光を前記半導体膜上に導くと共に、その照射点を互いに離隔させ且つ直線上に配する導光手段と、を具備することを特徴とするエキシマレ-ザアニ-ル装置。

IPC (2)：

H01L 21/268 ,  H01L 21/324