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J-GLOBAL ID：200903089005499190

排気ガス浄化装置の再生システム

Inventor：
成瀬 和也

About 成瀬 和也


Applicant, Patent owner：
イビデン株式会社

About イビデン株式会社


Agent (1)： 安富 康男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998212199
Publication number (International publication number)：2000042327
Application date： Jul. 28, 1998
Publication date： Feb. 15, 2000
Summary：
【要約】【課題】 多くのセンサ等を必要とせず、安価な装置を用いて容易に再生を行うことができる排気ガス浄化装置の再生システムを提供する。【解決手段】 多孔質炭化珪素焼結体よりなる排気ガス浄化用ハニカムフィルタが内燃機関の排気通路に設置された排気ガス浄化装置と、前記フィルタに堆積したパティキュレートの量を測定するための背圧センサと、前記フィルタを再生するために該フィルタのガス流入側の前方に配置されたヒータと、前記フィルタ再生時にエアーを供給するためのエアー供給源とを備えた排気ガス浄化装置の再生システム。
Claim (excerpt)：
多孔質炭化珪素焼結体よりなる排気ガス浄化用ハニカムフィルタが内燃機関の排気通路に設置された排気ガス浄化装置と、前記フィルタに堆積したパティキュレートの量を測定するための背圧センサと、前記フィルタを再生するために該フィルタのガス流入側の前方に配置されたヒータと、前記フィルタ再生時にエアーを供給するためのエアー供給源とを備えたことを特徴とする排気ガス浄化装置の再生システム。
IPC (4)：
B01D 46/00 302 ,  B01D 39/20 ,  B01D 46/42 ,  F01N 3/02 341
FI (5)：
B01D 46/00 302 ,  B01D 39/20 D ,  B01D 46/42 A ,  B01D 46/42 B ,  F01N 3/02 341 R
F-Term (32)：
3G090AA02 ,  3G090BA04 ,  3G090CA01 ,  3G090CB18 ,  3G090DA03 ,  3G090DA13 ,  4D019AA01 ,  4D019BA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019BC12 ,  4D019BD01 ,  4D019CA01 ,  4D019CB03 ,  4D019CB04 ,  4D019CB09 ,  4D058JA32 ,  4D058JB02 ,  4D058JB06 ,  4D058JB22 ,  4D058JB41 ,  4D058KA12 ,  4D058KB02 ,  4D058KC04 ,  4D058KC33 ,  4D058KC62 ,  4D058KC68 ,  4D058MA42 ,  4D058MA52 ,  4D058PA04 ,  4D058PA11 ,  4D058SA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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