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J-GLOBAL ID：200903089006597595

水素・一酸化炭素混合ガスの製造方法、製造装置及びこれを備える燃料・電力併産プラント

Inventor： 木曽 文彦 ,  穐山 徹 ,  森原 淳 ,  花山 文彦 ,  木田 栄次
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  バブコック日立株式会社
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999313756
Publication number (International publication number)：2001139303
Application date： Nov. 04, 1999
Publication date： May. 22, 2001
Summary：

【要約】【課題】 石炭と炭層ガスを高圧条件下で反応させて、水素と一酸化炭素の混合ガスを製造することができる方法、製造装置及びこれを備える燃料・電力併産プラントを提供する。【解決手段】 炭層ガス2と石炭をガス化装置20に供給して部分酸化し、生成した一酸化炭素の一部をガス化装置20内でスチーム4によりシフト反応させることによって水素比の高い水素/一酸化炭素混合ガスを製造することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

炭素系燃料とメタンを主成分とする炭層ガスとから水素・一酸化炭素混合ガスを製造する方法であって、前記炭素系燃料と前記炭層ガスを部分酸化して水素と一酸化炭素を生成し、該一酸化炭素の一部を水蒸気と反応させて水素に変えて水素比を高めることを特徴とする水素・一酸化炭素混合ガスの製造方法。

IPC (5)：

C01B 3/36 ,  C01B 3/48 ,  C10J 3/46 ,  C10J 3/48 ,  C10J 3/72

FI (7)：

C01B 3/36 ,  C01B 3/48 ,  C10J 3/46 H ,  C10J 3/46 L ,  C10J 3/48 ,  C10J 3/72 E ,  C10J 3/72 H

F-Term (10)：

4G040EA03 ,  4G040EA04 ,  4G040EA05 ,  4G040EA06 ,  4G040EA07 ,  4G040EB01 ,  4G040EB03 ,  4G040EB11 ,  4G040EB32 ,  4G040EB41

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 石炭・炭層ガスハイブリッドガス化炉