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J-GLOBAL ID：200903089026279239

フィルム基材用ハードコート膜、及びその形成方法

Inventor： 吉原 俊夫
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 光来出 良彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998102070
Publication number (International publication number)：1999279303
Application date： Mar. 30, 1998
Publication date： Oct. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】 従来のゾル溶液に比べて長期間安定なゾル溶液を用いることができ、短時間あるいは低い加熱温度で硬化塗膜とすることができ、フィルム基材に対して硬化塗膜の密着性が優れ、ハード性能に優れたSiO2 ゲル膜を主成分とするフィルム基材用ハードコート膜、及びその形成方法を提供する。【解決手段】 下記一般式で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製した少なくとも一部が分子量2万〜6万のSiO2 ゾルを含むSiO2 ゾルをフィルム基材上に塗布し、加熱によりゲル化するか、或いは活性エネルギー線を照射することによりゲル化する。【数1】(Rは炭素数1〜10のアルキル基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基又はカルボキシル基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である。)

Claim (excerpt)：

下記一般式で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製したSiO2 ゾルを主成分とするSiO2 ゾル膜をゲル化してなるSiO2 ゲル膜からなることを特徴とするフィルム基材用ハードコート膜。【数1】(Rは炭素数1〜10のアルキル基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基又はカルボキシル基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である。)