Pat
J-GLOBAL ID:200903089060655002
光断層画像取得装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
柳田 征史 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000334096
Publication number (International publication number):2002139421
Application date: Nov. 01, 2000
Publication date: May. 17, 2002
Summary:
【要約】【課題】 光断層画像取得装置において、測定対象組織周辺のみの画像を高速かつ高品質に取得することができるようにする。【解決手段】偏向手段142の偏向方向を変え、信号光Lsを水平方向に偏向させ、測定範囲の水平方向の走査を行う。次に偏向手段143の偏向方向を変え信号光Lsを垂直方向に微小に偏向させ、再度偏向手段142を駆動させ水平方向の走査を行う。上記の動作を繰り返すことにより、測定範囲の2次元平面の走査を行う。さらに、参照光ミラー132を光軸方向に移動し、被測定組織10の断層情報を取得する深度を変えて、再度2次元平面の走査を行う。上記動作を信号光が所定の深度に達するまで繰り返すことにより、測定開始位置から測定終了位置までの被写体10の測定範囲の3次元の断層情報を得る。
Claim (excerpt):
低コヒーレンス光を信号光と参照光に分割し、前記信号光を被写体に照射した後、前記参照光と干渉させて、前記被写体の光断層画像を取得する光断層画像取得装置において、前記信号光の光源を固定し、該光源からの前記信号光の照射ビームの照射位置を2次元的に移動させる偏向手段を備えたことを特徴とする光断層画像取得装置。
IPC (2):
G01N 21/17 630
, A61B 10/00
FI (2):
G01N 21/17 630
, A61B 10/00 E
F-Term (18):
2G059AA05
, 2G059AA06
, 2G059BB13
, 2G059CC16
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059FF08
, 2G059GG00
, 2G059GG06
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ17
, 2G059JJ18
, 2G059JJ22
, 2G059KK01
, 2G059LL04
, 2G059NN01
, 2G059PP04
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