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J-GLOBAL ID：200903089073455100

水浸構造物の防汚方法及びその設備

Inventor： 久保田 伸彦 ,  綾部 統夫 ,  田中 瑞乃 ,  根目沢 礼和
Applicant, Patent owner： 石川島播磨重工業株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997273148
Publication number (International publication number)：1999107232
Application date： Oct. 06, 1997
Publication date： Apr. 20, 1999
Summary：

【要約】【課題】 水生生物の繁殖,繁茂を防止し、停滞水に接触している壁面の防汚,防食を図り、水の汚損防止および防汚効果を持続させるとともに、防汚施設の設置を容易にする。【解決手段】 貯水池や水路を構成している水浸構造物の内壁面に、TiO2 体を担持させた防汚層を形成しておき、貯水池や水路における上方の開放部分から太陽光線を導入して、TiO2 体の光触媒反応に基づいて生じる酸化力により、水浸構造物の接水壁面等の防汚を行う。

Claim (excerpt)：

貯水池や水路を構成している水浸構造物(X)の内壁面(1)に、TiO2 体を担持させた防汚層(2)を形成しておき、上方の開放部分(3)から太陽光線を導入して、TiO2 体の光触媒反応に基づいて生じる酸化力により、水浸構造物の内壁面の防汚を行うことを特徴とする水浸構造物の防汚方法。

IPC (7)：

E02B 1/00 301 ,  A01M 29/00 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C09K 3/00 112 ,  A01N 59/16

FI (7)：

E02B 1/00 301 Z ,  A01M 29/00 Z ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C09K 3/00 112 Z ,  A01N 59/16 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 海洋構造物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-232753   Applicant：株式会社ブリヂストン
• 抗菌・防汚・浄化体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-193302   Applicant：三井金属鉱業株式会社
• 特開平4-270831
  
• 便 器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-176283   Applicant：東陶機器株式会社
• 特開平4-270831