Pat
J-GLOBAL ID:200903089085167410
パターン歪み補正装置、パターン歪み補正方法、およびパターン歪み補正プログラムを記録した記録媒体
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000167609
Publication number (International publication number):2001350250
Application date: Jun. 05, 2000
Publication date: Dec. 21, 2001
Summary:
【要約】【課題】 エッジシフト量だけでなく、プロセスマージンも考慮しながら、レイアウトパターンの歪み補正を行うパターン歪み補正装置を提供する。【解決手段】 パターン歪み補正装置は、レイアウトパターンの仕上がりパターンを予測する仕上がりパターン予測部16と、予測された仕上がりパターンと基準パターン間のずれであるエッジシフト量を測定するエッジシフト量測定部17と、予測された仕上がりパターンのプロセスマージンを測定するプロセスマージン測定部24-Nと、測定されたエッジシフト量と、測定されたプロセスマージンとが判定基準を満たすか否かを判定する測定結果判定部18と、測定結果判定部18による判定結果に基づいて、判定基準を満たすようにレイアウトパターンを補正するレイアウトパターン仮補正部19とを備える。
Claim (excerpt):
レイアウトパターンの仕上がりパターンを予測する仕上がりパターン予測手段と、予測された仕上がりパターンと基準パターン間のずれであるエッジシフト量を測定するエッジシフト量測定手段と、測定されたエッジシフト量が判定基準を満たすか否かを判定する測定結果判定手段と、測定結果判定手段による判定結果に基づいて、判定基準を満たすようにレイアウトパターンを補正するレイアウトパターン仮補正手段とを備えるパターン歪み補正装置において、プロセスマージンを測定するプロセスマージン測定手段を備え、測定結果判定手段は、測定されたエッジシフト量だけでなく、測定されたプロセスマージンも判定基準を満たすか否かを判定することを特徴とするパターン歪み補正装置。
IPC (3):
G03F 1/08
, G06F 17/50 658
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 1/08 A
, G06F 17/50 658 M
, H01L 21/30 502 V
F-Term (9):
2H095BA02
, 2H095BA07
, 2H095BB01
, 2H095BB36
, 5B046AA08
, 5B046BA04
, 5B046DA02
, 5B046FA04
, 5B046JA02
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