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J-GLOBAL ID：200903089093293068

感放射線性レジスト組成物

Inventor： 井上 昌章 ,  平 一夫 ,  勇元 喜次 ,  三浦 孝夫
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993191838
Publication number (International publication number)：1995028230
Application date： Jul. 07, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 組成物に配合される界面活性剤がろ過時にフィルターに吸着されることがないため、ストリエーションを生じることがなく、常に均一な膜厚を有する塗膜を安定して形成することができるとともに、現像性にも優れた新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 炭素数が6以上のパーフルオロアルケニル基を分子内に有する界面活性剤を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

炭素数が6以上のパーフルオロアルケニル基を分子内に有する界面活性剤を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 504 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027