Pat
J-GLOBAL ID:200903089105928870
PINダイオードを含む複合半導体装置、この装置の製造方法及びこの装置を用いた高周波装置
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山本 秀策
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000147119
Publication number (International publication number):2001068557
Application date: May. 18, 2000
Publication date: Mar. 16, 2001
Summary:
【要約】【課題】 PINダイオードと異なる種類の他の能動素子を半導体基板上に集積化したPINダイオードを含む複合半導体装置を提供する。【解決手段】 半絶縁性GaAs基板11上にn型半導体領域12とp型半導体領域13を設け、n型半導体領域12上にn型オーミック電極14を設け、p型半導体領域13上にp型オーミック電極15を設けている。n型半導体領域12とp型半導体領域13を相互に1μm離間させて配置しており、これによりPINダイオード16のp層-i層-n層という構造が形成される。また、半絶縁性GaAs基板11上にFET10を設けている。
Claim (excerpt):
高抵抗半導体基板と、該高抵抗半導体基板上に形成され、n型半導体領域及びp型半導体領域を含むPINダイオードと、該高抵抗半導体基板上に形成され、該PINダイオードとは異なる種類の能動素子とを備え、該n型半導体領域及び該p型半導体領域の少なくとも一方は、イオン注入されたものであるPINダイオードを含む複合半導体装置。
IPC (12):
H01L 21/8222
, H01L 27/06
, H01L 27/04
, H01L 21/822
, H01L 21/06
, H01L 21/8232
, H01L 21/331
, H01L 29/73
, H01L 27/095
, H01L 29/861
, H01L 21/329
, H01P 1/15
FI (8):
H01L 27/06 101 D
, H01P 1/15
, H01L 27/04 A
, H01L 27/06 F
, H01L 29/72
, H01L 29/80 E
, H01L 29/91 F
, H01L 29/91 A
Return to Previous Page