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J-GLOBAL ID：200903089127776810

エキシマレーザーによるポリエチレン製品の光架橋

Inventor： 上田 正紘 ,  目 不二雄 ,  田中 英樹 ,  藤井 仁 ,  酒井 清章
Applicant, Patent owner： 酒井化学工業株式会社
Agent (1)： 西山 聞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993342528
Publication number (International publication number)：1995165934
Application date： Dec. 13, 1993
Publication date： Jun. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 短時間で効率よく架橋反応を起こすと共に、製造コストを低減し、しかも光開始剤の濃度を調整してポリエチレン製品Wの厚みに対する架橋反応の及ぶ深さを任意に調整可能とする。【構成】 ベンゾフェノン系の光開始剤を所定濃度添加したポリエチレン製品にエキシマレーザーを照射する。

Claim (excerpt)：

ポリエチレン原料にベンゾフェノン、4ークロロベンゾフェノン等のベンゾフェノン系の光開始剤を所定濃度で添加し、押出成形機によりシート状または発泡状のポリエチレン製品となし、該ポリエチレン製品にエキシマレーザーを照射したことを特徴とするエキシマレーザーによるポリエチレン製品の光架橋。

IPC (3)：

C08J 3/28 CES ,  C08J 7/00 304 ,  C08L 23:04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭60-245643
  
• 特開平4-185651
  
• 特開平4-185656
  
• 特開昭54-053169