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J-GLOBAL ID：200903089166536363

シリコンと他の金属との接着方法

Inventor： 大西 安夫
Applicant, Patent owner： ウシオ電機株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993237175
Publication number (International publication number)：1995060557
Application date： Aug. 31, 1993
Publication date： Mar. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 真空気密性長期維持および機械的強度を確実に維持させるためのSiと他の金属との接着方法を提供する。【構成】 シリコンと他の金属との接着方法において、シリコンの接着位置にチタニウムを含む低融点合金を用いてメタライズする工程と、他の金属の接着位置に低融点合金の被膜を形成する工程と、両者の接着位置を対面させた状態で両者の接着位置を加熱接着させる工程を含む。そして、チタニウムを含む低融点合金は、チタニウムとインジウム、もしくは、チタニウムとインジウムと錫、もしくは、チタニウムとインジウムと鉛、もしくはチタニウムとインジウムと亜鉛からなるものが良い。

Claim (excerpt)：

シリコンと他の金属との接着方法において、シリコンの接着位置にチタニウムを含む低融点合金を用いてメタライズする工程と、他の金属の接着位置に低融点合金の被膜を形成する工程と、両者の接着位置を対面させた状態で両者の接着位置を加熱接着させる工程を含むことを特徴とするシリコンと他の金属との接着方法。

IPC (3)：

B23P 11/00 ,  G01J 1/02 ,  G01J 5/02