Pat
J-GLOBAL ID:200903089226091609
ハロゲン化合物を含有するプロセス又は排煙ガスの処理方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992211729
Publication number (International publication number):1993220391
Application date: Aug. 07, 1992
Publication date: Aug. 31, 1993
Summary:
【要約】【目的】 本発明は二つの連続した循環流動床反応槽内で、ハロゲン化合物を含有する高温の排煙ガス又はプロセスガスを冷却する方法に関するものである。【構成】 第一反応槽でガスは温度400°C近くまで冷却され、第二反応槽で250-400°C以下の温度域に急速に冷却されるものである。第一の反応槽中で、ガスはポリハロゲン化合物を分解できる触媒物質と接触させる。ガスの第一反応槽中での滞留時間は1-10秒である。
Claim (excerpt):
高温ガスがその温度が冷却後>400°Cとなるように第一の循環流動床反応槽内で冷却され、次いでガス温度を急激に250-400°Cの温度域よりも下に下降させることができる第二の流動床反応槽内で冷却される、二つの連続した循環流動床反応槽内でハロゲン化合物を含有する高温のプロセス又は排煙ガスを冷却する方法であって、温度が700°Cを超える高温のプロセスガス又は排煙ガスを400-700°Cに冷却させる第一の流動床反応槽内へ流動ガスとして導入すること、第一の循環流動床反応槽内でのガスの滞留時間が1-10秒であること、第一の循環流動床反応槽内で上記ガスが多ハロゲン化合物を分解できる触媒物質との接触させることを特徴とする前記方法。
IPC (8):
B01J 21/08
, B01J 8/26
, B01J 21/04
, B01J 23/06
, B01J 23/14
, B01J 23/72
, B01J 23/74 321
, B01D 53/36
Return to Previous Page