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J-GLOBAL ID:200903089227691472

パターン化された有機薄膜の製造方法、パターン化された有機薄膜を含む有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998106219
Publication number (International publication number):1999307246
Application date: Apr. 16, 1998
Publication date: Nov. 05, 1999
Summary:
【要約】【課題】均一な、パターン化された有機薄膜を容易に製造する方法、該有機薄膜を用いた高輝度、高発光効率、低駆動電圧の有機EL素子、および該素子の製造方法を提供する。【解決手段】剥離可能な樹脂組成物を基板上に特定のパターンに成膜し、ついで、1μm以下1nm以上の厚みを有する有機薄膜を基板全面に成膜した後、パターンに成膜した該樹脂組成物の膜を剥離することで、該樹脂組成物の膜を成膜した部分以外の基板上に有機薄膜のパターンを形成するパターン化された有機薄膜の製造方法。
Claim (excerpt):
剥離可能な樹脂組成物を基板上に特定のパターンに成膜し、ついで、1μm以下1nm以上の厚みを有する有機薄膜を基板全面に成膜した後、パターンに成膜した該樹脂組成物の膜を剥離することで、該樹脂組成物の膜を成膜した部分以外の基板上に有機薄膜のパターンを形成することを特徴とするパターン化された有機薄膜の製造方法。
IPC (4):
H05B 33/10 ,  C09K 11/06 680 ,  H05B 33/14 ,  C08L101/00
FI (4):
H05B 33/10 ,  C09K 11/06 680 ,  H05B 33/14 A ,  C08L101/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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